課程資訊
課程名稱
積體電路工程
INTEGRATED CIRCUIT TECHNOLOGY 
開課學期
96-1 
授課對象
電機資訊學院  光電工程學研究所  
授課教師
郭宇軒 
課號
EE5114 
課程識別碼
921 U7120 
班次
 
學分
全/半年
半年 
必/選修
選修 
上課時間
星期五2,3,4(9:10~12:10) 
上課地點
電二143 
備註
總人數上限:60人 
Ceiba 課程網頁
http://ceiba.ntu.edu.tw/961_Si 
課程簡介影片
 
核心能力關聯
本課程尚未建立核心能力關連
課程大綱
為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
課程概述

本課程將介紹積體電路製程,涵蓋製程各階段之基礎理論與技術、設備原理與應用,並著重製程整合與前瞻性元件製程發展之配合。內容以CMOS之矽製程為主軸,並包含各種不同元件之製程探討。
內容包含:
(1) Introduction
(2) Crystal & Wafer
(3) Oxidation
(4) Diffusion
(5) Ion Implantation
(6) Epitaxy and Thin Film Deposition
(7) Etching
(8) Lithography
(9) Back-End Technology
(10) Characterization, Measurement, and Testing
(11) Silicon-Based Process Integration
(12) Packaging
(13) Technology Trend 

課程目標
建立對積體電路製程之知識基礎,了解各製程步驟之特性、用途、限制,以及各步驟間相容或相斥之關係,探討製程整合之方法及考量因素,以用於先進元件與製程之研究發展。 
課程要求
無,但建議具備基礎電子學與半導體之知識。 
預期每週課後學習時數
 
Office Hours
另約時間 備註: Please e-mail me to arrange office meeting. 
指定閱讀
 
參考書目
課程講義 
評量方式
(僅供參考)
 
No.
項目
百分比
說明
1. 
期中考 
40% 
 
2. 
期末考 
40% 
 
3. 
作業 
20% 
 
 
課程進度
週次
日期
單元主題
第1週
09/21  Introduction 
第2週
09/28  Crystal and Wafer 
第3週
10/05  Oxidation 
第4週
10/12  Diffusion (Part I) 
第5週
10/19  DIffusion (Part II) 
第6週
10/26  Ion Implantation 
第7週
11/02  Epitaxy 
第8週
11/09  Epitaxy 
第9週
11/16  Deposition 
第10週
11/23  Midterm (期中考) 
第11週
11/30  Deposition 
第12週
12/07  Etching 
第13週
12/14  Lithography 
第14週
12/21  Backend Technology 
第15週
12/28  Measurement and Characterization 
第16週
1/04  Process Integration 
第17週
1/11  Packaging